La maison

Par Junbok Rhee & Hyunjung Joo · Séoul
Se retrouver soi-même — drapés et tailoring feutré venus de la Seoul Fashion Week
RE RHEE — « se retrouver soi-même », d'après le nom du créateur Junbok Rhee — est une maison séoulienne lancée en 2019 par ce diplômé de Central Saint Martins avec Hyunjung Joo. Habituée des podiums de la Seoul Fashion Week (de l'AH 2024 au PE 2026), elle construit un vestiaire féminin raffiné et discrètement luxueux, entre drapés, tailoring précis et tendance contenue.
Le prix final peut varier selon le taux de change en vigueur.
Livraison 53 € · offerte dès 333 € — TTC, droits de douane inclus
Jupe longue plissée à la tenue légère et à la silhouette fluide, dont les plis délicats apportent une allure naturelle et raffinée ; une bande de qualité à la taille assure un confort durable, tandis que le tissu léger et doux se déploie en mouvement avec fluidité.
Choisissez votre taille
Retours gratuits sous 14 jours
Tissu principal : polyester 100%
| Taille | FR S | FR M | FR L |
|---|---|---|---|
| taille | 69,5 cm | 74,5 cm | 81 cm |
| hanches | 86 cm | 91 cm | 97,5 cm |
| ourlet | 94,5 cm | 99,5 cm | 106 cm |
| longueur | 82,5 cm | 83 cm | 84 cm |
Mesures à plat, en cm — elles peuvent varier de 1 à 3 cm selon la méthode de mesure.
Expédié de Séoul — 5–8 jours ouvrés. Livraison 53 € par commande, offerte dès 333 € d’achat. Taxes et droits de douane inclus : rien à payer à la livraison.
Retours gratuits sous 14 jours, conformément au droit de rétractation.
Taxes et droits de douane inclus — aucun frais à la livraison.
La maison

Par Junbok Rhee & Hyunjung Joo · Séoul
Se retrouver soi-même — drapés et tailoring feutré venus de la Seoul Fashion Week
RE RHEE — « se retrouver soi-même », d'après le nom du créateur Junbok Rhee — est une maison séoulienne lancée en 2019 par ce diplômé de Central Saint Martins avec Hyunjung Joo. Habituée des podiums de la Seoul Fashion Week (de l'AH 2024 au PE 2026), elle construit un vestiaire féminin raffiné et discrètement luxueux, entre drapés, tailoring précis et tendance contenue.